超高光普成像技術的類型和發(fā)展趨勢

?在遙感技術的領域里，超光譜成像技術是一種新型技術，它將光學、光譜學、電子技術、精密機械、計算機技術集于一體。本文簡單介紹了超高光譜成像技術的類型及發(fā)展趨勢。

超高光普成像技術的類型

根據(jù)光譜分辨率超光譜成像技術可以分為超光譜型、超高光譜型和多光譜型，多光譜光譜分辨率為10-1數(shù)量級；光譜分辨率在10-2數(shù)量級時稱為高光譜；超光譜光譜分辨率為10-3數(shù)量級。高光譜成像技術具有上百個波段、光譜分辨率幾個納米、波段窄、光譜范圍廣（200-2500nm）和圖譜合一等特點。優(yōu)勢在于采集到的圖像信息量豐富，識別度較高和數(shù)據(jù)描述模型多。由于物體的反射光譜具有“指紋”效應，不同物體不同譜，同物一定同譜的原理來分辨不同的物質(zhì)信息。

由于超光譜成像光譜分辨率高、波段連續(xù)性強、獲得目標的精細光譜特征信息，所以與多光譜傳感器相比更具優(yōu)勢。在0.4～2.5nm范圍內(nèi)，超光譜成像可細分成幾十個甚至幾百個波段，分辨率一般為5～10nm。在超多段光譜成像中，若以波長為橫軸，灰度值為縱軸，在各通道的灰度值上，圖像上的每一個像元點都可以形成一條精細的光譜特征曲線，由此構成超多維光譜空間。

超高光譜成像光譜儀可以在幾十乃至幾百個波段范圍內(nèi)獲取地物的光譜特征信息，應用于可見光、近紅外、遠紅外等波段，使地物的分類和識別能力有了很大提高，其應用領域諸多，前景較高的有：農(nóng)業(yè)、林業(yè)、地質(zhì)、軍事遙感等。

超高光普成像技術的發(fā)展趨勢

對未來的發(fā)展趨勢，超光譜成像技術主要為四個方面來發(fā)展：

1. 通過對大量物質(zhì)光譜特征的獲取，建立標準的數(shù)據(jù)庫。

2. 新物質(zhì)、新技能的發(fā)展標志著成像光譜儀的誕生，它輕小性能更好。

3. 大量傳感器、存儲介質(zhì)、讀出電路等技能的發(fā)展，促進超光譜成像技術向更高方向發(fā)展。

4. 更高效、快捷處理光譜、圖像數(shù)據(jù)，滿足進一步實時處理的需要。